| ID | 164121006 |
| 国服 | 遁地符 |
| 台服 | 歪曲縮地符 |
| 国际 | Talisman: Warp Gate |
| 韩服 |
| 等级 | 数据 |
| Lv.1 | 消耗36魔量，62秒内，开放遁地门 再次使用技能时，移动至遁地门处，在遁地门附近使用技能时，移动至留下痕迹的位置，每2秒可移动一次 设置后，在按住向上键的同时再次使用技能，可进行重新设置，重新设置一次后1秒内无法再次设置 [被动效果：有1%的概率额外回避] |
| Lv.2 | 消耗37魔量，64秒内，开放遁地门 再次使用技能时，移动至遁地门处，在遁地门附近使用技能时，移动至留下痕迹的位置，每2秒可移动一次 设置后，在按住向上键的同时再次使用技能，可进行重新设置，重新设置一次后1秒内无法再次设置 [被动效果：有2%的概率额外回避] |
| Lv.3 | 消耗38魔量，66秒内，开放遁地门 再次使用技能时，移动至遁地门处，在遁地门附近使用技能时，移动至留下痕迹的位置，每2秒可移动一次 设置后，在按住向上键的同时再次使用技能，可进行重新设置，重新设置一次后1秒内无法再次设置 [被动效果：有3%的概率额外回避] |
| Lv.4 | 消耗39魔量，68秒内，开放遁地门 再次使用技能时，移动至遁地门处，在遁地门附近使用技能时，移动至留下痕迹的位置，每2秒可移动一次 设置后，在按住向上键的同时再次使用技能，可进行重新设置，重新设置一次后1秒内无法再次设置 [被动效果：有4%的概率额外回避] |
| Lv.5 | 消耗40魔量，70秒内，开放遁地门 再次使用技能时，移动至遁地门处，在遁地门附近使用技能时，移动至留下痕迹的位置，每2秒可移动一次 设置后，在按住向上键的同时再次使用技能，可进行重新设置，重新设置一次后1秒内无法再次设置 [被动效果：有5%的概率额外回避] |
| Lv.6 | 消耗41魔量，72秒内，开放遁地门 再次使用技能时，移动至遁地门处，在遁地门附近使用技能时，移动至留下痕迹的位置，每2秒可移动一次 设置后，在按住向上键的同时再次使用技能，可进行重新设置，重新设置一次后1秒内无法再次设置 [被动效果：有6%的概率额外回避] |
| Lv.7 | 消耗42魔量，74秒内，开放遁地门 再次使用技能时，移动至遁地门处，在遁地门附近使用技能时，移动至留下痕迹的位置，每2秒可移动一次 设置后，在按住向上键的同时再次使用技能，可进行重新设置，重新设置一次后1秒内无法再次设置 [被动效果：有7%的概率额外回避] |
| Lv.8 | 消耗43魔量，76秒内，开放遁地门 再次使用技能时，移动至遁地门处，在遁地门附近使用技能时，移动至留下痕迹的位置，每2秒可移动一次 设置后，在按住向上键的同时再次使用技能，可进行重新设置，重新设置一次后1秒内无法再次设置 [被动效果：有8%的概率额外回避] |
| Lv.9 | 消耗44魔量，78秒内，开放遁地门 再次使用技能时，移动至遁地门处，在遁地门附近使用技能时，移动至留下痕迹的位置，每2秒可移动一次 设置后，在按住向上键的同时再次使用技能，可进行重新设置，重新设置一次后1秒内无法再次设置 [被动效果：有9%的概率额外回避] |
| Lv.10 | 消耗45魔量，80秒内，开放遁地门 再次使用技能时，移动至遁地门处，在遁地门附近使用技能时，移动至留下痕迹的位置，每2秒可移动一次 设置后，在按住向上键的同时再次使用技能，可进行重新设置，重新设置一次后1秒内无法再次设置 [被动效果：有10%的概率额外回避] |
| Lv.11 | 消耗46魔量，82秒内，开放遁地门 再次使用技能时，移动至遁地门处，在遁地门附近使用技能时，移动至留下痕迹的位置，每2秒可移动一次 设置后，在按住向上键的同时再次使用技能，可进行重新设置，重新设置一次后1秒内无法再次设置 [被动效果：有11%的概率额外回避] |
| Lv.12 | 消耗47魔量，84秒内，开放遁地门 再次使用技能时，移动至遁地门处，在遁地门附近使用技能时，移动至留下痕迹的位置，每2秒可移动一次 设置后，在按住向上键的同时再次使用技能，可进行重新设置，重新设置一次后1秒内无法再次设置 [被动效果：有12%的概率额外回避] |
| Lv.13 | 消耗48魔量，86秒内，开放遁地门 再次使用技能时，移动至遁地门处，在遁地门附近使用技能时，移动至留下痕迹的位置，每2秒可移动一次 设置后，在按住向上键的同时再次使用技能，可进行重新设置，重新设置一次后1秒内无法再次设置 [被动效果：有13%的概率额外回避] |
| Lv.14 | 消耗49魔量，88秒内，开放遁地门 再次使用技能时，移动至遁地门处，在遁地门附近使用技能时，移动至留下痕迹的位置，每2秒可移动一次 设置后，在按住向上键的同时再次使用技能，可进行重新设置，重新设置一次后1秒内无法再次设置 [被动效果：有14%的概率额外回避] |
| Lv.15 | 消耗50魔量，90秒内，开放遁地门 再次使用技能时，移动至遁地门处，在遁地门附近使用技能时，移动至留下痕迹的位置，每2秒可移动一次 设置后，在按住向上键的同时再次使用技能，可进行重新设置，重新设置一次后1秒内无法再次设置 [被动效果：有15%的概率额外回避] |
| Lv.16 | 消耗51魔量，92秒内，开放遁地门 再次使用技能时，移动至遁地门处，在遁地门附近使用技能时，移动至留下痕迹的位置，每2秒可移动一次 设置后，在按住向上键的同时再次使用技能，可进行重新设置，重新设置一次后1秒内无法再次设置 [被动效果：有16%的概率额外回避] |
| Lv.17 | 消耗52魔量，94秒内，开放遁地门 再次使用技能时，移动至遁地门处，在遁地门附近使用技能时，移动至留下痕迹的位置，每2秒可移动一次 设置后，在按住向上键的同时再次使用技能，可进行重新设置，重新设置一次后1秒内无法再次设置 [被动效果：有17%的概率额外回避] |
| Lv.18 | 消耗53魔量，96秒内，开放遁地门 再次使用技能时，移动至遁地门处，在遁地门附近使用技能时，移动至留下痕迹的位置，每2秒可移动一次 设置后，在按住向上键的同时再次使用技能，可进行重新设置，重新设置一次后1秒内无法再次设置 [被动效果：有18%的概率额外回避] |
| Lv.19 | 消耗54魔量，98秒内，开放遁地门 再次使用技能时，移动至遁地门处，在遁地门附近使用技能时，移动至留下痕迹的位置，每2秒可移动一次 设置后，在按住向上键的同时再次使用技能，可进行重新设置，重新设置一次后1秒内无法再次设置 [被动效果：有19%的概率额外回避] |
| Lv.20 | 消耗55魔量，100秒内，开放遁地门 再次使用技能时，移动至遁地门处，在遁地门附近使用技能时，移动至留下痕迹的位置，每2秒可移动一次 设置后，在按住向上键的同时再次使用技能，可进行重新设置，重新设置一次后1秒内无法再次设置 [被动效果：有20%的概率额外回避] |
